名稱：等離子體噴涂裝置和方法

    公開(公告)號：CN101653047

    公開(公告)日：2010.02.17

    主分類號：H05H1/24(2006.01)I

    申請(專利權)人：等離子體技術有限公司

    地址：英屬維爾京群島托托拉島

    發明(設計)人：尼克萊·蘇斯洛夫

    國際申請：2007-02-02PCT/EP2007/000919

    國際公布：2008-08-07WO2008/092478英

    進入國家日期：2009.09.30

    專利代理機構：北京安信方達知識產權代理有限公司

    代理人：顏濤

    摘要

    本發明公開了用于等離子體噴涂的裝置和方法。該裝置包括陰極、陽極、由陽極和中間電極形成的等離子體通道、和一個或多個可流動材料注射器。等離子體通道具有節流部分，其將該等離子體通道分為由至少一個中間電極形成的接近陰極的高壓部分和接近陽極的低壓部分。在操作過程中，等離子體發生氣體由保持在陰極和陽極之間的電弧加熱，以形成等離子體。當等離子體通過節流部分時，等離子體的速度增大到超音速，而同時等離子體的靜態壓力下降�？闪鲃拥牟牧媳蛔⑷朐诘蛪翰糠种辛鲃拥牡入x子體中。在可流動材料中的微粒由等離子體加熱，并且生成的被加熱微粒和等離子體從等離子體通道的出口被輸出。